1. 设计规范与核心挑战
盲埋孔设计规则
孔径与深径比:
盲孔:激光钻孔孔径≥0.1mm,深径比≤1:1(如0.1mm孔径/0.1mm深度)。
埋孔:机械钻孔孔径≥0.2mm,深径比≤10:1(如0.3mm孔径对应3mm层压厚度)。
间距要求:
孔边到导线间距≥0.15mm,孔间间距≥0.2mm,避免电镀短路。
阻抗控制:
盲孔引入的电容需通过仿真补偿(如HFSS优化),确保阻抗公差±8%。
叠层优化策略
顺序层压法:
分层压合(如先压合L2-L5,再压合L1和L6-L8),减少层间应力。
堆叠孔(Stacked Via)与交错孔(Staggered Via):
堆叠孔节省空间但增加工艺难度;交错孔提升可靠性但占用更多面积。
2. 材料选择与工艺关键点
基材要求
高Tg材料:Tg≥170℃(如Isola FR408HR),承受多次压合高温(180~200℃)。
低CTE匹配:Z轴CTE≤50 ppm/℃,防止层压后孔铜断裂(如松下MEGTRON6)。
核心工艺步骤
激光钻孔:
CO2激光(用于非金属材料)或UV激光(金属+介质),精度±15μm。
孔壁粗糙度Ra<1μm,需等离子体清洗去除碳化残留。
电镀填孔:
盲孔采用铜填充(导电膏)或树脂塞孔,表面平整度<10μm。
埋孔需在层压前完成电镀,确保孔内铜厚≥20μm。
层压对准:
使用X-ray对位系统,层间偏移≤25μm,避免盲孔错位导致开路。
3. 典型应用场景与设计案例
智能手机主板(10层任意层HDI)
盲孔:L1-L2和L9-L10,孔径0.1mm,铜填充保证平整度。
埋孔:L3-L8层间埋孔,孔径0.2mm,交错排列减少串扰。
高速服务器CPU插槽
盲孔:L1-L3短桩(Stub<0.1mm),减少信号反射。
埋孔:L4-L6层间差分对跳转,孔间距0.3mm,阻抗100Ω±5%。
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